實驗室高壓反應釜可在恒溫條件下進行各種溶媒合成反應，儀器反應部分為可操控全密封結構，可利用負壓連續(xù)吸入各種液體和氣體，也可在不同溫度下做回流或蒸餾，是現(xiàn)代精細化工廠、生物制藥和新材料合成的理想中試、生產(chǎn)設備。

 

　　今天小編要與大家分享的是實驗室高壓反應釜釉料的基本知識：

 

　　1、釉料的制備

 

　　用石英、長石、螢石、石灰石等各種礦物原料和硼砂、純堿、硝酸鈉、氟硅酸鈉、氧化鈦、氧化銻、氧化鈷、氧化鎳、氧化銅、氧化鉻等化工原料經(jīng)配料熔融或研磨等加工工序制成釉漿或釉粉。

 

　　2、釉料的配料

 

　　將各種原料按配方準確稱量、混勻，有人工配料和機械配料兩種，人工配料需進行交叉拌篩操作，機械配料直接在配料機內(nèi)進行旋轉拌合，為提高配合料質(zhì)量和熔融質(zhì)量，需控制配合料含水量。

 

　　3、釉料的熔制

 

　　充分混勻的配合料在高溫下通過一系列物理化學反應熔制，急冷成性能穩(wěn)定的釉熔制時有的要熔融充分后急冷有的則成半熔融狀態(tài)，即急冷成釉塊熔制釉的窯爐，主要有坩堝爐池爐和回轉爐幾種坩堝爐，又稱圓爐。采用間歇作業(yè)方式，配合料在坩堝中熔融經(jīng)高溫完成熔制過程。一座窯爐中可放置多只坩堝，分別熔制不同的瓷釉，但產(chǎn)量小、熱效率低，池爐采用連續(xù)作業(yè)方式配合料直接投入爐中進行高溫熔制，熔制好的釉料由池爐另一端小孔流出急冷成粒，池爐熔制產(chǎn)量大，熱效率高，能穩(wěn)定作業(yè)，但在同一時間內(nèi)只能熔制單一品種的釉。回轉爐配合料投入旋轉的水平橫臥體爐中熔制燃料由筒體爐一端直接噴射在翻轉的配合料上，使之熔融間歇操作該方式產(chǎn)量大熱耗低熔制的質(zhì)量較均勻。

 

　　4、釉料的研磨

 

　　將釉塊研磨成釉漿或釉粉，釉漿用于浸漬涂搪噴搪電泳或靜電噴涂，釉粉用于噴搪灑粉搪或靜電噴涂等，常用的研磨設備是間歇式球磨機的內(nèi)襯和球石，常用石英硬質(zhì)陶瓷或剛玉質(zhì)材料制成。